Copierea de continut din prezentul site este supusa regulilor precizate in Termeni si conditii! Click aici.
Prin utilizarea siteului sunteti de acord, in mod implicit cu Termenii si conditiile! Orice abatere de la acestea constituie incalcarea dreptului nostru de autor si va angajeaza raspunderea!

Elseve - Arginine resist 3 Masca de par

1 - cea mai mica nota
10 - cea mai mare nota

Risc scazut*
* Conform voturilor utilizatorilor

Companie: L’Oreal Paris

Descriere Elseve - Arginine resist 3 Masca de par

Arginine resist ×3 Masca de par

Acest produs a fost solicitat de unul dintre vizitatorii AlegeSanatos.ro. Analiza sa a fost efectuata pe baza informatiilor furnizate de solicitant.

Masca fortifianta Full Resist pentru par fragil, cu o formula mai puternica fara silicon. Reda rezistenta parului, cu multiple utilizari. Se poate aplica pe: scalp, lungimi, pe parul ud sau ca leave-in.

Cantitate: 300 ml.

Alte informatii:

Acest produs contine 26 ingrediente dintre care 14 sunt considerate a fi sigure, 11 ingrediente prezinta risc mediu de dauna, iar 1 ingredient prezinta risc mare de dauna.

Ingrediente Elseve - Arginine resist 3 Masca de par

AQUA, CETEARYL ALCOHOL, BEHENTRIMONIUM CHLORIDE, CETYL ESTERS, LACTIC ACID, RICINUS COMMUNIS SEED OIL, HYDROXYPROPYL TRIMONIUM HYDROLYZED WHEAT PROTEIN, PHENOXYETHANOL, ARGININE, TRIDECETH-6, CHLORHEXIDINE DIGLUCONATE, LIMONENE, LINALOOL, BENZYL ALCOHOL, BENZYL SALICYLATE, AMODIMETHICONE, ISOPROPYL ALCOHOL, 2-OLEAMIDO-1, 3-OCTADECANEDIOL, BIOTIN, POTASSIUM HYDROXIDE, CETRIMONIUM CHLORIDE, HEXYL CINNAMAL, GLYCERYL LINOLEATE, GLYCERYL OLEATE, GLYCERYL LINOLENATE, FRAGRANCE/PARFUM

Grad de risc produs:
Atentie la urmatoarele ingrediente:

Parfum sau fragrance, ingredient cu risc de dauna ridicat, are rol de mascare/acoperire a mirosului neplacut. Conform legislatiei in vigoare, nu este obligatoriu ca pe eticheta produsului sa fie listate toate ingredientele componente ale Fragrance. Se considera insa ca un parfum contine cel putin 14 chimicale ce nu sunt trecute pe eticheta, multe dintre ele nefiind evaluate in ceea ce priveste gradul lor de siguranta.

Phenoxyethanol, ingredient cu risc mediu de dauna, este un ingredient parfum si conservant. Este o alternativa pentru parabeni. Previne sau intarzie cresterea microbiana protejand astfel cosmeticele de la alterare. Se regaseste, in mod natural, in ceai verde. Poate produce iritatii.

Chlorhexidine Digluconate, ingredient cu risc mediu de dauna, are functiile de biocid, agent igiena orala si conservant. Protejeaza cosmeticele si produsele de ingrijire personala de la deterioare. Poate provoca alergii. Cosmetic Ingredient Review (CIR) permite folosirea acestui ingredient in cosmetice si produse de ingrijire personala atata timp cat este folosit in concentratii de pana la 0.20%. Conform Directivei UE 1223/2009, Chlorhexidine Digluconate poate fi folosit drept conservant in cosmetice si produse de ingrijire personala in concentratii de pana la 0.3%, exprimat drept Clorhexidina (Anexa VI).

Benzyl Alcohol, ingredient cu risc mediu de dauna, este un ingredient parfum, dar si conservant. Ingredient sintetic care poate aparea in mod natural in caise, merisor, ciuperci si miere. Acest ingredient poate fi folosit si drept conservant in cosmetice si produse pentru ingrijire personala in concentratii de pana la 1%.

Benzyl salicylate, ingredient cu risc mediu de dauna, este un ingredient de parfum si absorbant UV. Food and Drug Administration (FDA) a aprobat folosirea acestui ingredient ca agent de aroma pentru adaugarea directa in mancare. Conform Directivei UE 1223/2009, acest ingredient este inclus pe lista cu substante alergene.

Isopropyl alcohol, ingredient cu risc mediu de dauna, are functiile de agent antispumant, ingredient parfum, solvent si agent de micsorare a vascozitatii. Este un alcool care se evapora repede si este folosit pentru dizolvarea altor substante din produse. Are un miros asemanator cu cel al etanolului. Poate prezenta toxicitate la nivelul organelor, neurotoxicitate si iritatii la nivelul pielii, ochilor si al plamanilor.

Cetrimonium Chloride, ingredient cu risc mediu de dauna, este un agent antistatic, emulsifiant, antimicrobian si conservant. Previne electrizarea parului. Are rolul de curatare a pielii si parului datorita caracteristicii sale de a amesteca apa cu grasimea si murdaria, prezente la suprafata pielii, pentru a putea fi usor curatate/indepartate.

Glyceryl Linolenate, ingredient cu risc mediu de dauna. Are functiile de agent de ingrijire a pielii, emolient, surfactant, agent de emulsifiere. Poate produce iritatii la nivelul ochilor si al pielii. Cosmetic Ingredient Review (CIR) permite folosirea acestui ingredient in cosmetice atata timp cat se respecta procedeele actuale privind modul sau de intrebuintare si concentratie.

Linalool, ingredient cu risc mediu de dauna, este un agent de aroma cu rol de mascare/acoperire a mirosului. Este produs, in mod natural, de anumite plante precum: menta, scortisoara, fructele de citru. Research Institute for Fragrance Materials Expert Panel (REXPAN) restrictioneaza folosirea acestui ingredient in parfumuri din cauza posibilitatii dezvoltarii unei potentiale sensibilitati. Poate provoca eczeme conform unui studiu prezentat la Sahlgrenska Academy (Suedia).

Limonene, ingredient cu risc mediu de dauna, este un solvent si un agent de aroma, disponibil in doua variante: cu miros de pin si cu miros de portocala. Nu este toxic, dar in contact cu aerul se poate descompune si forma cantitati mici de produse oxidante, care cauzeaza alergii la nivelul pielii.

Data analizei: 2021-01-11

Bibliografie si Rapoarte Mentiunile producatorului

Pentru o descriere amanuntita, dati click pe oricare dintre ingredientele de mai jos:

Grad de risc ingrediente:

AQUA

Sinonime: WATER, ONSEN-SUI, DEIONIZED WATER, DISTILLED WATER, PURIFIED WATER, DIHYDROGEN OXIDE, DISTILLED WATER

Functii: solvent

Descriere:

ingredient ce se regaseste in aproape toate cosmeticele si produsele de ingrijire personala
cosmeticele si produsele de ingrijire personala contin numai apa fara toxine, poluanti si microbi

Reactii adverse:

Alergii / Imunotoxicitate:: Nu exista informatii
Expunere multipla, cumulativa:: Nu exista informatii
Toxicitate la nivelul organelor:: Nu
Probleme la nivel endocrin:: Nu exista informatii
Neurotoxicitate:: Nu exista informatii
Genotoxicitate / Mutagenicitate:: Nu exista informatii
Persistenta si bioacumulare:: Nu
Iritatii (piele, ochi, plamani):: Nu exista informatii
Ecotoxicologie:: Nu
Cancer:: Nu exista informatii
Toxicitate la nivel reproductiv:: Nu exista informatii
Restrictii de folosinta:: Nu exista informatii
Contaminati:: Nu exista informatii
Riscuri profesionale:: Nu exista informatii
Capacitate absorbtie:: Nu exista informatii
Modificari celulare:: Nu exista informatii

Siguranta/Rating ingredient:

Conform Guidance on Cosmetic Manufacturing Practice Guidelines, Food and Drug Administration (FDA) monitorizeaza calitatea apei (denumita “apa de proces”) folosite in cosmetice si in produsele de ingrijire personala.

Exista si alte companii care se supun cu standardele U.S. Pharmacopeia (USP) privind puritatea apei folosite in medicamente. Apa purificata conform acestor standard este preparata din apa supusa reglementarilor U.S. Environmental Protection Agency (EPA) cu privire la apa potabila. Nu contine alte substante adaugate intentionat.

Elseve - Arginine resist 3 Masca de par

Descriere Elseve - Arginine resist 3 Masca de par

Ingrediente Elseve - Arginine resist 3 Masca de par

Spune-ne opinia ta despre"Elseve - Arginine resist 3 Masca de par"

Spune-ne opinia ta despre"Elseve - Arginine resist 3 Masca de par"

Abonare Newsletter

Spune-ne opinia ta despre
"Elseve - Arginine resist 3 Masca de par"

Spune-ne opinia ta despre
"Elseve - Arginine resist 3 Masca de par"